一、集成电路布图设计定义

（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；集成电路一般分为设计、制造、封装三个阶段。在设计集成电路时，一般分为“前端设计”和“后端设计”两大部 分。前端设计进行电路系统设计、产生电路图和它的连接网表；后端设计要设计出制造过程所需掩膜版的十几层甚至二十几层版图图形。一般说，前端设计的内容应当用专利保护，而布图设计则采用集成电路布图保护条例保护，设计后芯片的制造、封装同前端设计一样采用专利保护。
（二）集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；
（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；
（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

二、集成电路布图设计保护须知
（一）集成电路布图设计的法律保护
集成电路布图设计是TRIPS协议所规定应保护的知识产权，我国已先后于2001年4月和2001年9月公布了《集成电路布图设计保护条例》及其实施细则，并于2001年10月1日起正式实施。
与著作权不同，集成电路布图设计专有权必须经国家知识产权行政部门，即国家知识产权局登记后生效。申请布图设计登记应提交布图设计登记申请表，布图设计的复制件或者图样等材料。中国单位或个人可以自行提交有关申请，也可以委托专利代理机构办理。国外申请人必须经过国家知识产权局指定的代理机构办理。
（二）集成电路布图设计专有权的保护期限
集成电路布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。

集成电路布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

三、集成电路布图设计登记的流程及提交的材料
1、申请阶段及提交的材料：

（1）集成电路布图设计登记申请表。集成电路布图设计登记申请表应当写明如下内容：
a、申请人的姓名或者名称、地址或者居住地；
b、申请人的国籍；
c、集成电路布图设计的名称； 
d、集成电路布图设计创作者的姓名或者名称；
e、集成电路布图设计的创作完成日期；

f、该集成电路布图设计所用于的集成电路的分类；
g、申请人委托专利代理机构的，应当注明的有关事项；申请人未委托专利代理机构的，其联系人的姓名、地址、邮政编码及联系电话；
h、集成电路布图设计有条例第十七条所述商业利用行为的，该行为的发生日；
i、集成电路布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数；
j、申请人或者专利代理机构的签字或者盖章；
k、申请文件清单；
l、附加文件及样品清单；
m、其他需要注明的事项
（2）集成电路布图设计的复制件或者图样。申请人提交的集成电路布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求：
a、复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该集成电路布图设计生产的集成电路的20倍以上；申请人可以同时提供该复制件或者图样的电子版本；提交电子版本的复制件或者图样的，应当包含该集成电路布图设计的全部信息，并注明文件的数据格式；
b、复制件或者图样有多张纸件的，应当顺序编号并附具目录；
c、复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式；如果大于A4纸的，应当折叠成A4纸格式；
d、复制件或者图样可以附具简单的文字说明，说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。
（3）集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品，并应当符合下列要求：
a、申请人所提交的4件集成电路样品应当置于能保证其不受损坏的专用器具中，并附具填写好的国家知识产权局统一编制的表格；
b、器具表面应当写明申请人的姓名、申请号和集成电路名称；
c、器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥器中至少存放十年。
（4）国家知识产权局规定的其他材料。
2、审查阶段：
集成电路布图设计登记申请经初步审查，未发现驳回理由的，由国务院知识产权行政部门予以登记，发给登记证明文件，并予以公告。
3、后续程序：
     集成电路布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门驳回其登记申请的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内，向国务院知识产权行政部门请求复审。国务院知识产权行政部门复审后，作出决定，并通知布图设计登记申请人。布图设计登记申请人对国务院知识产权行政部门的复审决定仍不服的，可以自收到通知之日 起3个月内向人民法院起诉。

      集成电路布图设计获准登记后，国务院知识产权行政部门发现该登记不符合本条例规定的，应当予以撤销，通知布图设计权利人，并予以公告。布图设计权利人对国务院知识产权行政部门撤销布图设计登记的决定不服的，可以自收到通知之日起3个月内向人民法院起诉。